レーザー加工時の異物対策 │ ガラス基板のレーザー加工時に発生するヒューム・蒸散物が基材へ付着するのを防ぐため、ウェブクリーナースタティックエアを導入した事例です。

2016/03/30

お客様の課題

パターニングは、レーザーで機材に直接回路パターンを精密描画する加工方法です。薄膜太陽電池の基本部材には、機能性材料の薄膜を積層したガラス基板が使われています。昨今の薄膜太陽電池の製造プロセスにおいて、積層を行う工程では、回路パターンを描画するためにレーザーパターニングが行われています。しかし、レーザーで蒸散して薄膜を除去すると、膜やヒュームが発塵し、スプラッシュ（飛び散り）により機材にダメージを与える原因になります。レーザーパターニングでは、このような微小パーティクルの発塵や再付着に対して対策を施さなければなりません。

解決策

イメージ写真です

イオナイゼーションを搭載した非接触式ウェブクリーナースタティックエアを、ガラス基板を介してレーザー照射部とは反対側に設置します。強力なイオナイゼーションとフラットジェットノズルからのエアーストリームにより、蒸散によるパーティクルを制御し、スタティックエア洗浄用ヘッドでの吸引エアーフローにより除去します。

スタティックエアは、ダクトホースを介して集塵機に接続しています。ヒュームや蒸散物を吸引除去する集塵システムです。

運転データ
□機材:　ガラス
□圧縮エア：　0.5-0.8 kgf/cm2
□システム：　スタティックエア、吸引・制御ユニットESUC

下の写真をクリックして、スタティックエアによる除塵の原理を動画でご視聴いただけます。